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CXM 系列納米級超細(xì)磨為料漿流動方向與轉(zhuǎn)子離心方向一致的新型研磨機(jī)。本公司2007年新開發(fā)CXM系列納米級超細(xì)磨，用球只有￠0.3~0.8mm小球作研磨介質(zhì)的臥式高效研磨機(jī)，將物料短時間內(nèi)研磨至300~600納米，粒度分布狹窄而集中。
研磨盤可為偏心、三偏心或圓形結(jié)構(gòu)，按一定順序排列，研磨介質(zhì)分布均勻，研磨效率高，產(chǎn)品細(xì)度可達(dá)到 微米或亞微米級。
CXM系列納米級超細(xì)磨為料漿流動方向與轉(zhuǎn)子離心方向一致的新型研磨機(jī)。本公司2007年新開發(fā)CXM系列納米級超細(xì)磨，用球只有￠0.3~0.8mm小球作研磨介質(zhì)的臥式高效研磨機(jī)，將物料短時間內(nèi)研磨至300~600納米，粒度分布狹窄而集中。
分級分離分級研磨功能：離心分離的作用，細(xì)顆粒物料被排出磨腔，研磨次數(shù)少，可防止過磨；大顆粒物料不能排出，在磨腔內(nèi)多磨幾次甚至幾十次，很快被磨細(xì)；最終產(chǎn)品顆粒非常均勻，分布很窄。
